1、基本原理：

   Rietveld方法的基本原理是逐點(diǎn)比較衍射強(qiáng)度的計(jì)算值與觀測(cè)值，通過小二乘法，調(diào)節(jié)實(shí)驗(yàn)參數(shù)、峰形參數(shù)以及結(jié)構(gòu)參數(shù)，使計(jì)算峰形與實(shí)驗(yàn)峰形大限度地吻合。具體來說，就是將理論計(jì)算所得的強(qiáng)度數(shù)據(jù)以一定的峰形參數(shù)與實(shí)驗(yàn)強(qiáng)度擬合，在擬合過程中需要不斷調(diào)整峰形函數(shù)和結(jié)構(gòu)參數(shù)的值，以使計(jì)算強(qiáng)度一步一步地向?qū)嶒?yàn)強(qiáng)度值靠近，擬合采用小二乘法，擬合直到兩者的差值小。

2、測(cè)定方法：

    2.1樣品的預(yù)處理：對(duì)樣品進(jìn)行研磨、過篩或拋光處理，可根據(jù)具體的檢測(cè)參數(shù)選擇不同的樣品加工程序。

    2.2樣品與標(biāo)準(zhǔn)樣品的配比混合：對(duì)于含有非晶態(tài)的粉末樣品，定量分析過程中添加固定含量的內(nèi)標(biāo)物可對(duì)結(jié)晶相進(jìn)行準(zhǔn)確定量；對(duì)于檢測(cè)礦物的晶胞參數(shù)、晶粒大小，該標(biāo)準(zhǔn)樣品可作為內(nèi)標(biāo)或外標(biāo)校正的參照相，對(duì)儀器儀器誤差、制樣過程誤差等進(jìn)行校正；同時(shí)，該標(biāo)準(zhǔn)樣品也可以作為一種質(zhì)量控制的手段，對(duì)檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行準(zhǔn)確性驗(yàn)證。

    2.3試樣的填裝：通常使用凹槽試樣板，將試樣均勻填入凹槽中，試樣面比試樣板面略高，用一塊載玻片壓緊試樣，應(yīng)使試樣面與試樣板面在一個(gè)平面上，試樣很少時(shí)，使用單晶或多孔材料制的無孔無背底試樣板，將試樣與既不會(huì)使之溶解又不會(huì)與之發(fā)生反應(yīng)的易揮發(fā)溶劑混合，將此混合液滴在試樣板面上，使其鋪展開，溶劑揮發(fā)后，在試樣板正面得到一薄層試樣，供測(cè)定用。

    2.4選擇合適的條件，進(jìn)行步進(jìn)或連續(xù)掃描，獲得衍射圖譜。

3、數(shù)據(jù)處理

    建立結(jié)構(gòu)模型、計(jì)算理論強(qiáng)度；與實(shí)驗(yàn)譜圖進(jìn)行比較、調(diào)整參數(shù)以及再計(jì)算，優(yōu)化的結(jié)構(gòu)參數(shù)主要有兩大類：結(jié)構(gòu)參數(shù)和非結(jié)構(gòu)參數(shù)。結(jié)構(gòu)參數(shù)包括：晶胞參數(shù)、晶胞中每個(gè)原子的坐標(biāo)、濕度因子、位置占有率、標(biāo)度因子、試樣衍射峰的半高寬、總的濕度因子、擇尤取向、晶粒大小和微觀應(yīng)力、消光、微吸收。非結(jié)構(gòu)參數(shù)包括：零點(diǎn)、儀器參數(shù)、衍射峰的非對(duì)稱性、背景、樣品位移、樣品透明性、樣品吸收。一般先優(yōu)化非結(jié)構(gòu)參數(shù)，然后才優(yōu)化結(jié)構(gòu)參數(shù)。通過終的精修結(jié)果，即可獲得樣品的物相組成、物相相對(duì)含量、晶胞參數(shù)、晶粒大小和微觀應(yīng)變等參數(shù)。