例1－4說明晶閘管型號(hào)KP100-8E代表。

解：KP100-8E表示額定電流100A、額定電壓8級(jí)（800V、通態(tài)平均電壓組別E（0.7＜UT≤0.8）普通晶閘管。

例1－5晶閘管的額定電流和其他電氣設(shè)備的額定電流有什么不同？

解：由于整流設(shè)備的輸出端所接負(fù)載常用平均電流來衡量其性能，所以晶閘管額定電流的標(biāo)定與其他電器設(shè)備不同，采用的是平均電流，而不是有效值，又稱為通態(tài)平均電流。所謂通態(tài)平均電流是指在環(huán)境溫度為40℃和規(guī)定的冷卻條件下，晶閘管在導(dǎo)通角不小于170°電阻性負(fù)載電路中，當(dāng)不超過額定結(jié)溫且穩(wěn)定時(shí)，陶瓷電阻卡片，所允許通過的工頻正弦半波電流的平均值。

印制電路圖形的轉(zhuǎn)移所使用的原材料，自出現(xiàn)印制電路以來，吉林電阻片，原材料的研制與開發(fā)科學(xué)攻關(guān)工作從未停止過。從原始階段設(shè)計(jì)采用抗蝕油漆或蟲膠漆手工描繪簡(jiǎn)單的線路圖形轉(zhuǎn)移工藝技術(shù)的需要。但隨著微電子技術(shù)的飛速發(fā)展，大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路的廣泛應(yīng)用，要求印制電路板的制造技術(shù)，必須適應(yīng)高密度、高精度、細(xì)導(dǎo)線、窄間距及小孔徑電路圖形轉(zhuǎn)移需要。幾十年來，電阻器片，研制與開發(fā)出新型的光致抗蝕劑與電路圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)：如光致抗蝕干膜、濕法貼膜技術(shù)、電泳光致抗蝕膜和直接成像技術(shù)，都逐步地被制造印制電路板商家所采用，使電路圖形的轉(zhuǎn)移品質(zhì)大幅度的提高。為敘述簡(jiǎn)便，就印制電路板制造過程中，電阻卡片，所采用的電路圖形轉(zhuǎn)移原材料，按順序加以簡(jiǎn)單論述


v干膜光致抗蝕劑的結(jié)構(gòu)

干膜光致抗蝕劑由聚酯薄膜，光致抗蝕劑膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成。聚酯薄膜是支撐感光膠層的載體，使之涂布成膜，厚度通常為25μm左右。聚酯薄膜在曝

光之后顯影之前除去，防止曝光時(shí)氧氣向抗蝕劑層擴(kuò)散，破壞游離基，引起感光度下降。聚乙烯膜是復(fù)蓋在感光膠層上的保護(hù)膜，防止灰塵等污物粘污干膜，避免在卷膜時(shí)，每層

抗蝕劑膜之間相互粘連。聚乙烯膜一般厚度為25μm左右。

光致抗蝕劑膜為干膜的主體，多為負(fù)光材料，其厚度視其用途不同，有若干種規(guī)格，薄的可以是十幾個(gè)微米，厚的可達(dá)100μm。

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干膜光致抗蝕劑的制作是先把預(yù)先配制好的感光膠在高清潔度的條件下，在高精度的涂布機(jī)上涂覆于聚酯薄膜上，經(jīng)烘道干燥并冷卻后，覆上聚乙烯保護(hù)膜，卷繞在一個(gè)輥芯上。

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v★光致抗蝕劑膜層的主要成分及作用

：我國大量用于生產(chǎn)的是全水溶性干膜，這里介紹的是全水溶性干膜感光膠層的組成。

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