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超硬類金剛石涂層:
TAC(Tetrahedral AmphousCarbon,四面體非晶碳)涂層,是一種無氫DLC(類金剛石)涂層,其膜層可以達到85%以上的(金剛石)SP3鍵含量,具有極高的硬度(>75GPa)、極低的摩擦系數(shù)(< 0.1)、高彈性模量、寬透光范圍、良好的化學惰性等優(yōu)點,其物理化學性質(zhì)和金剛石極其類似。
超厚類金剛石涂層:
通過降低涂層的內(nèi)應力和優(yōu)化膜層結(jié)構(gòu)可制備出超厚的膜層,在保留TAC膜層較高的硬度、優(yōu)異的自潤滑性能、高熱導率、低介電常數(shù)、寬帶隙以及生物兼容性等優(yōu)點的同時,超厚類金剛石涂層可以大幅提高產(chǎn)品的耐磨、耐腐蝕等性能。
超黑類金剛石涂層:
DLC(Diamond LikeCarbon)涂層又叫類金剛石涂層,它是一種新型的硬質(zhì)潤滑功能涂層材料,具有SP2和SP3電子軌道雜化的碳原子空間網(wǎng)絡結(jié)構(gòu),通常為非晶態(tài)或非晶-納米晶復合結(jié)構(gòu)。DLC涂層具有較高的硬度、優(yōu)異的減摩耐磨性能、高熱導率、低介電常數(shù)、寬帶隙、良好的光學透過性以及優(yōu)異的化學惰性和生物兼容性等。
耐高溫類金剛石涂層:
耐高溫類金剛石涂層可制備出耐高溫性能更好的膜層,在保留TAC膜層極高的硬度、優(yōu)異的減摩耐磨性能、高熱導率、低介電常數(shù)、寬帶隙、良好的光學透過性以及優(yōu)異的化學惰性和生物兼容性等優(yōu)點的同時,進一步提高了可制備膜層的耐高溫性能,大幅拉升了TAC膜層工作溫度,擴大了應用范圍。
金屬膜層:
金屬膜層可以改善材料的性能,薄的金屬膜可以改變電學和裝飾性能,提高材料的磨損抗力、化學抗力、硬度和化學性能。
金屬Cr層具有硬度高、耐磨、反光性能好、化學穩(wěn)定性好等特點。
金屬Ti層具有高的熱強性、持久強度、良好耐腐蝕性、親生物性、抗阻尼性能,無磁無毒。
金屬Cu層具有延展性、導熱性、導電性高、電阻率低等特點。
金屬Ni層具有較高的硬度、耐腐蝕性高、磁性、裝飾性。
金屬Ag層具有極好導電性、導熱性、裝飾性、反光性、提高材料焊接性能。
金屬Al層具有極好的反光性、導電性、導熱性、延展性、耐腐蝕性、抗磁化性、阻燃性、裝飾性,且毒副作用小。
氧化物膜層:
SiO2涂層具有無毒、熱穩(wěn)定性好、機械穩(wěn)定性好和結(jié)構(gòu)易于調(diào)整等優(yōu)點。疏油疏水,甚至可以抵抗一些有機溶劑。
Al2O3是鋁的穩(wěn)定氧化物,Al2O3薄膜是一種常用的功能薄膜材料,由于具有高的透射比、高化學穩(wěn)定性、高絕緣性、良好的耐高溫耐腐蝕等優(yōu)良的物理化學性質(zhì)。
Cr2O3具有高化學穩(wěn)定性、耐腐蝕、極好的親水性。
TiO2有高折射率、高介電常數(shù)、良好的電子元器件性能和化學穩(wěn)定性還具有良好的血液相容性。
ZrO2有高熔點、高電阻率、高折射率和低熱膨脹系數(shù)等特性。
氮化物膜層:
CrN具有優(yōu)異耐磨性、抗氧化、抗腐蝕性、高光潔度、低化學親和力、提高產(chǎn)品脫模性能
TiN具有硬度高、摩擦系數(shù)低、良好化學惰性良好的生物相容性、提升材料抗磨性等特性。
TiAlN涂層一般稱之為“中鋁”,它擁有好的耐高溫,耐腐蝕,高硬度,且摩擦系數(shù)較低。
AlTiN涂層一般稱之為“高鋁”,擁有優(yōu)異的耐高溫,耐腐蝕,高硬度。
TiSiN涂層為TiN和Si3N4的納米晶復合結(jié)構(gòu),具有極高的抗熱性能,獨特的外觀,超長的服役壽命,兼具高韌性和高硬度。
CrAlN擁有良好的抗沖擊、防腐蝕性、耐磨性、耐高溫性能。
應用領(lǐng)域:合金及不銹鋼加工刀具、硬質(zhì)合金及高速鋼滾齒刀、各類沖壓、擠壓、注塑模具及其他涉及耐磨、耐沖擊、耐腐蝕領(lǐng)域,適合用于干式切削。
真空鍍膜設備,PVD鍍膜加工,類金剛石涂層加工,磁控濺射鍍膜機,純離子鍍膜設備
納米薄膜、機電一體化、機電設備、材料科學設備及技術(shù)研發(fā)、設計、安裝、維修、服務及銷售。(依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動)
安徽純源鍍膜科技有限公司是由新加坡歸國創(chuàng)業(yè)團隊于2014年創(chuàng)立的高科技公司,坐落于合肥市高新區(qū)習友路3789號。主要從事真空納米、微米級高端鍍膜裝備的設計、研發(fā)和制造;并提供多種功能膜層的工藝開發(fā)和鍍膜加工服務。公司目前擁有設計、研發(fā)、工藝、市場和生產(chǎn)等各方面的人才。在陰極弧(Cathode Arc)、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(fā)(E-beam Evaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學氣相沉積(CVD)等領(lǐng)域都...