真空涂層技術(shù)起步時間不長，國際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將CVD（化學(xué)氣相沉積）技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進(jìn)行（工藝溫度高于1000oC），涂層種類單一，局限性很大，起初并未得到推廣。到了上世紀(jì)七十年代末，開始出現(xiàn) PVD（物理氣相沉積）技術(shù)，之后在短短的二、三十年間 PVD 涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展。

     離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

     離子鍍技術(shù)優(yōu)點

    （1）鍍層附著性能好

    普通真空鍍膜時，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時，離子高速轟擊工件時，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生,可見附著多么牢固，膜層均勻，致密。

    （2）繞鍍能力強

    離子鍍時，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī)，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動半徑范圍內(nèi)的任何地方。

    （3）鍍層質(zhì)量好

    離子鍍的鍍層組織致密、無針孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復(fù)，不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍復(fù)，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

    （4）清洗過程簡化

    現(xiàn)有鍍膜工藝，多數(shù)均要求事先對工件進(jìn)行嚴(yán)格清洗，既復(fù)雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續(xù)于整個鍍膜過程。清洗效果極好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強了附著力，簡化了大量的鍍前清洗工作。

    （5）可鍍材料廣泛

    離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴(kuò)散作用和化學(xué)反應(yīng)。然而，整個工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點材料等均可鍍復(fù)。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。

    PVD 鍍膜技術(shù)的應(yīng)用主要分為兩大類：裝飾鍍和工具鍍。

    工具鍍的目的：主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命；這方面主要應(yīng)用在各種刀剪、車削刀具（如車刀、刨刀、銑刀、鉆頭等等）等產(chǎn)品中。

    安徽純源鍍膜科技有限公司主要從事真空納米鍍膜設(shè)備的設(shè)計、研發(fā)、加工制造、銷售、售后服務(wù)和鍍膜生產(chǎn)服務(wù)。在純離子鍍膜(PIC)、化學(xué)氣相沉積（CVD）、磁控濺射、多弧離子鍍、離子束刻蝕清洗等真空鍍膜應(yīng)用領(lǐng)域都擁有國內(nèi)外先進(jìn)技術(shù)。

    公司目前擁有多項核心技術(shù)，自主研發(fā)制造的純離子鍍膜設(shè)備(Pure Ion Coating，簡稱PIC)能夠制造出性能優(yōu)越的金屬膜、合金膜、金屬化合物膜和類金剛石薄膜；另一項自主研發(fā)的核心技術(shù)產(chǎn)品NDT(New Diamond Technology)能夠制成性能優(yōu)越穩(wěn)定的類金剛石薄膜。

    膜層系列有Ta-C、DLC、低溫氮化物膜 (TiN、CrN等)、碳化物膜 (CrC等)和高致密金屬/合金膜等。

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