伯東公司 pfeiffer  普發(fā)渦輪分子泵組脈沖激光沉積系統(tǒng)應(yīng)用

脈沖激光沉積（pulsed laser deposition, pld），是一種利用激光對物體進(jìn)行轟擊，然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上, 得到沉淀或者薄膜的一種手段. pld 系統(tǒng)由多個(gè)真空腔體組成，整個(gè)系統(tǒng)需要超高真空且不能引入任何雜質(zhì)，對環(huán)境的清潔度要求較高，必須配備無油干泵和分子泵抽真空。由于各個(gè)輔助腔體體積較小, 因此特別適合使用 pfeiffer hicube 系列分子泵組. 伯東公司銷售維修的 pfeiffer 分子泵組因其結(jié)構(gòu)緊湊體積小，清潔無油（前級泵配備干泵）、抽速快、極限真空度高達(dá)10-11mbar等優(yōu)點(diǎn)一經(jīng)上市好評如潮。
 

客戶案例一：南京某大學(xué)物理學(xué)院

1.系統(tǒng)功能：主要用于mn氧化物膜,陶瓷氧化膜或金屬膜的制備

2.真空度要求: 真空度< 1x10-8 mbar
3.樣品尺寸：大約1cm2
4.基板加熱溫度：700至1000度
該pld系統(tǒng) pfeiffer 分子泵配置:
1.pfeiffer 普發(fā)經(jīng)濟(jì)型分子泵組 hicube 80 eco
2.pfeiffer 普發(fā)渦輪分子泵 hipace 700

客戶案例二：上海某研究所  脈沖激光沉積系統(tǒng)基本規(guī)格:

1.系統(tǒng)功能：主要用于制備有機(jī)自旋閥器件，還可用于制備有機(jī)發(fā)光二極管、太陽能電池等器件
2.真空度要求: 真空度<3x10-10 mbar
3.樣品尺寸：直徑2’
4.基板加熱溫度：1000度
5.鍍膜方式：effusion cell/plasma cell
6.膜生長控制模式：鍍率/厚度/時(shí)間 控制模式
該pld系統(tǒng) pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵組 pfeiffer hicube 80*7
2.渦輪分子泵 pfeiffer hipace 300*2

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